ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਕਲੀਨਰ ਦੀਆਂ ਖਾਸ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ

ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਕਲੀਨਿੰਗ/ਐਚਿੰਗ ਮਸ਼ੀਨਾਂ ਇੱਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਫੀਲਡ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਇੱਕ ਸੀਲਬੰਦ ਕੰਟੇਨਰ ਵਿੱਚ ਦੋ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਰੱਖ ਕੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਪੈਦਾ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ। ਇੱਕ ਵੈਕਿਊਮ ਪੰਪ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਇੱਕ ਖਾਸ ਵੈਕਿਊਮ ਪੱਧਰ ਨੂੰ ਬਣਾਈ ਰੱਖਣ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਜਿਵੇਂ-ਜਿਵੇਂ ਗੈਸ ਵਧਦੀ ਦੁਰਲੱਭ ਹੁੰਦੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਅਣੂਆਂ ਅਤੇ ਅਣੂਆਂ ਜਾਂ ਆਇਨਾਂ ਦੀ ਸੁਤੰਤਰ ਗਤੀ ਵਿੱਚ ਦੂਰੀ ਵੀ ਵਧਦੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਇਲੈਕਟ੍ਰਿਕ ਫੀਲਡ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਅਧੀਨ, ਇਹ ਆਇਨ ਟਕਰਾਉਂਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ। ਇਹ ਆਇਨ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆਸ਼ੀਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਲਗਭਗ ਸਾਰੇ ਰਸਾਇਣਕ ਬੰਧਨਾਂ ਨੂੰ ਤੋੜਨ ਲਈ ਲੋੜੀਂਦੀ ਊਰਜਾ ਦੇ ਨਾਲ, ਕਿਸੇ ਵੀ ਖੁੱਲ੍ਹੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰੇਰਿਤ ਕਰਦੇ ਹਨ। ਵੱਖ-ਵੱਖ ਗੈਸ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਵਿੱਚ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਰਸਾਇਣਕ ਗੁਣ ਹੁੰਦੇ ਹਨ। ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, ਆਕਸੀਜਨ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਿੰਗ ਹੈ, ਗੈਸ ਪੈਦਾ ਕਰਨ ਲਈ ਫੋਟੋਰੇਸਿਸਟ ਨੂੰ ਆਕਸੀਕਰਨ ਕਰਨ ਦੇ ਸਮਰੱਥ ਹੈ, ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਇੱਕ ਸਫਾਈ ਪ੍ਰਭਾਵ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਖਰਾਬ ਗੈਸ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਐਨੀਸੋਟ੍ਰੋਪੀ ਹੈ, ਜੋ ਐਚਿੰਗ ਦੀਆਂ ਲੋੜਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਇਲਾਜ ਇੱਕ ਚਮਕ ਪੈਦਾ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਇਸ ਲਈ ਇਸਨੂੰ ਗਲੋ ਡਿਸਚਾਰਜ ਦਾ ਨਾਮ ਦਿੱਤਾ ਗਿਆ ਹੈ।
ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਸਫਾਈ ਦੀ ਵਿਧੀ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਤਹ ਦੇ ਧੱਬਿਆਂ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਵਿੱਚ ਸਰਗਰਮ ਕਣਾਂ ਦੀ "ਸਰਗਰਮਤਾ" 'ਤੇ ਨਿਰਭਰ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਵਿਧੀ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ, ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਸਫਾਈ ਵਿੱਚ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਹੇਠ ਲਿਖੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੀ ਹੈ: ਅਜੈਵਿਕ ਗੈਸਾਂ ਇੱਕ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਅਵਸਥਾ ਵਿੱਚ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ; ਗੈਸੀ ਪਦਾਰਥ ਠੋਸ ਸਤ੍ਹਾ ਉੱਤੇ ਸੋਖ ਜਾਂਦੇ ਹਨ; ਸੋਜ਼ਿਸ਼ ਕੀਤੇ ਸਮੂਹ ਉਤਪਾਦ ਦੇ ਅਣੂ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਠੋਸ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਅਣੂਆਂ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰਦੇ ਹਨ; ਉਤਪਾਦ ਦੇ ਅਣੂ ਗੈਸ ਪੜਾਅ ਵਿੱਚ ਕੰਪੋਜ਼ ਕਰਦੇ ਹਨ; ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੇ ਰਹਿੰਦ-ਖੂੰਹਦ ਨੂੰ ਸਤ੍ਹਾ ਤੋਂ ਹਟਾ ਦਿੱਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।

ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਸਫਾਈ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਸਭ ਤੋਂ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾ ਇਹ ਹੈ ਕਿ ਇਹ ਕਿਸੇ ਵੀ ਸਬਸਟਰੇਟ ਕਿਸਮ ਦਾ ਇਲਾਜ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਧਾਤੂਆਂ, ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰਾਂ, ਆਕਸਾਈਡਾਂ, ਅਤੇ ਜ਼ਿਆਦਾਤਰ ਪੌਲੀਮਰ ਸਮੱਗਰੀ ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਪੌਲੀਪ੍ਰੋਪਾਈਲੀਨ, ਪੋਲੀਸਟਰ, ਪੋਲੀਮਾਈਡ, ਪੋਲੀਵਿਨਾਇਲ ਕਲੋਰਾਈਡ, ਈਪੌਕਸੀ, ਅਤੇ ਇੱਥੋਂ ਤੱਕ ਕਿ ਪੌਲੀਟੇਟ੍ਰਾਫਲੋਰੋਇਥੀਲੀਨ ਵੀ ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ। ਇਹ ਪੂਰੀ ਸਤ੍ਹਾ ਅਤੇ ਖਾਸ ਖੇਤਰਾਂ ਦੇ ਨਾਲ-ਨਾਲ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਬਣਤਰਾਂ ਨੂੰ ਸਾਫ਼ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।